蒸發(fā)真空鍍膜，就是在真空的環(huán)境，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時(shí)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子就會(huì)吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。加熱蒸發(fā)后，使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔?。其均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì)。

光密度在線測(cè)試儀LS152，可以在真空鍍膜生產(chǎn)的過(guò)程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測(cè)。通過(guò)紅外線透過(guò)率、紫外線透過(guò)率以及可見光穿透率，來(lái)進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)鍍膜的均勻性。

影響厚度均勻性的因素有哪些呢？

基片上的膜厚度，就算是同一種物質(zhì)都會(huì)出現(xiàn)分子結(jié)構(gòu)不同的情況，而真空鍍膜就是一種物質(zhì)覆蓋另一種物質(zhì)，如果這兩種物質(zhì)的分子結(jié)合能夠很好的鑲嵌在一起，那么對(duì)真空鍍膜情況是有很大好處的。

基片表面的溫度也會(huì)影響真空鍍膜厚度是否均勻，基片的溫度越高鍍膜效果越好，也有一些特殊材料，基片溫度越低鍍膜的效果更好。

真空鍍膜機(jī)的蒸發(fā)功率和速率，也是影響真空鍍膜情況一個(gè)較大的因素，想要改變的話只能在真空鍍膜機(jī)上改善，想要通過(guò)加大真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)功率，來(lái)改變鍍膜情況是比較困難的。

最后真空鍍膜的時(shí)間和所需鍍膜的厚度，也是影響均勻性的因素。最有效的辦法，就是通過(guò)光密度在線測(cè)試儀LS152，來(lái)連續(xù)測(cè)試鍍膜厚度的均勻性是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。